Realisierung von diffraktiven Strukturen auf Faserstirn- und D-förmigen Faserseitenflächen
- 1Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V., Leibniz Institute of Photonic Technology
- 2Optical Engineering Group, Technische Universität Ilmenau
martin [dot] amberg [at] tu-ilmenau [dot] de
Lithographische Techniken erlauben die Realisierung diffraktiver und mikrooptischer Strukturen mit hoher Auflösung und großer Flexibilität. Typischerweise erfolgt diese Strukturierung aber auf ausgedehnten planaren Wafersubstraten. In diesem Beitrag wird dagegen über die direkte Strukturierung auf den Seiten- und Endflächen optischer Fasern berichtet. Durch eine geeignete Präparierung der Fasern wird die Belichtung von Gitterstrukturen mit Perioden bis zu 1,3 µm in einem Laserlithographiesystem ermöglicht. Anwendungen zur Strahleinkopplung über Gitter auf D-förmigen Lichtleitfasern sowie zur Strahlteilung bei Auskopplung über die Stirnfläche werden vorgestellt und mit Modellrechnungen verglichen.
@inproceedings{amberg2004p19,
author = {Amberg, Martin and Schröter, Siegmund and Pöhlmann, R. and Bartelt, Hartmut and Sinzinger, Stefan},
title = {{Realisierung von diffraktiven Strukturen auf Faserstirn- und D-förmigen Faserseitenflächen}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2004},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {105. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2004-06-02/2004-06-05},
venue = {Bad Kreuznach},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2004},
pages = {P19},
langid = {ngerman},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/105-p19}
}