Einfluss geometrisch-optischer Strukturparameter sowie instrumenteller Parameter auf dimensionelle mikroskopische Messungen an Mikro- und Nanostrukturen

Hochauflösende optische Mikroskopie stellt nach wie vor ein wichtiges Instrument zur dimensionellen Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen dar. Die insbesondere im Bereich der Mikrolithografie stetig wachsenden Anforderungen an die Messgenauigkeit machen ein verbessertes Verständnis der physikalisch-optischen Wechselwirkungen zwischen Struktur und elektromagnetischem Feld und daraus resultierend eine verbesserte Interpretation der mikroskopischen Abbildung erforderlich. Daher wurden von uns systematisch die Einflüsse geometrisch-optischer Strukturparameter (z.B. Strukturhöhe und -breite, Kantenform und -rauhigkeit, optische Konstanten, ...) sowie instrumenteller Parameter (z.B. Beleuchtungswellenlänge, NA, Kohärenzgrad, Aberration, ...) auf die mikroskopische Abbildung im UV und DUV Spektralbereich für verschiedene Verfahren (Hellfeld, Dunkelfeld, konfokal) anhand von Simulationsrechnungen theoretisch untersucht und exemplarisch mit experimentellen Ergebnissen verglichen. Die Einflüsse dieser Parameter auf dimensionelle Messungen an Mikro- und Nanostrukturen werden quantifiziert.