Scatterometrie an Kreuzgitterstrukturen

Scatterometrie hat sich als eine wesentliche Säule der Prozesskontrolle in der Halbleitertechnologie etabliert. Das Verfahren wird zunächst erläutert. Die Möglichkeiten des erweiterten Simultionstools MicroSim des ITO (Institut für Technische Optik) werden an praxisrelevanten, hochkomplexen Kreuzgitterstrukturen demonstriert. Mit den jüngsten Entwicklungen ist eine Simulation scatterometrischer Messsignale für beliebige Kreuzgitterstrukuren möglich. Vergleiche zwischen simulierten und gemessenen scatterometrischen Signalen werden gezeigt.