Strategien für die Beschleunigung der Bildsimulation bei der Defekterkennung an Nanostrukturen

Institut für Technische Optik, Universität Stuttgart;
2Qimonda, Dresden

rafler@ito.uni-stuttgart.de

Abstract

Die mikroskopisch optische Defekterkennung auf Wafern ist weiterhin das Mittel der Wahl, auch wenn die Strukturgrößen mittlerweile in der Größenordung der verwendeten Wellenlängen des Lichts und weit darunter liegen. Strukturen werden auf diese Art und Weise nicht mehr aufgelöst, aber man erhält bei bestimmten Beleuchtungs- und Detektorsettings einen Kontrast im Mikroskopbild an der Stelle, an der ein Defekt vorliegt. Wir zeigen Simulationen von solchen Mikroskopbildern an praxisrelevanten Strukturen und stellen Methoden vor, die Berechnungen zu beschleunigen. Dies geht mitunter einher mit einer Verfälschung des Ergebnisses, kann aber trotzdem entscheidende Hinweise auf zu verwendende Settings geben.

Keywords

Mikroskopie Nanotechnologie Mikrolithografie
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@inproceedings{dgao108-b10, title = {Strategien für die Beschleunigung der Bildsimulation bei der Defekterkennung an Nanostrukturen}, author = {S. Rafler, T. Schuster, U. Seifert, W. Osten}, booktitle = {DGaO-Proceedings, 108. Jahrestagung}, year = {2007}, publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.}, issn = {1614-8436}, note = {Talk B10} }
108. Annual Conference of the DGaO · Heringsdorf · 2007