Charakterisierung von DOEs mittels DUV-Scatterometrie

In der PTB wurde ein goniometrisches Laser-Scatterometer entwickelt und aufgebaut [1]. Das System ist sehr flexibel und erlaubt die Anwendung verschiedener scatterometrischer und ellipsometrischer Messverfahren. Messungen können bei verschiedenen Wellenlängen vom tiefen UV (deep UV, DUV) bis zum nahen IR durchgeführt werden. Haupteinsatzgebiet des Systems ist die Charakterisierung von periodischen Strukturen auf Fotomasken (u.a. Linienbreite, Gitterperiode, Kantenprofil). Das Scatterometer wurde jetzt mit einem neuen Detektorsystem und einer verbesserten Signalverarbeitung ausgerüstet, um den Dynamikbereich bei der Messung der gebeugten bzw. gestreuten Strahlung signifikant zu erhöhen und eine deutlich höhere Winkelauflösung zu erzielen. Eine detaillierte Charakterisierung optischer Elemente hinsichtlich Ihrer Streuverteilung ist nun im DUV möglich. Dies ist z.B. besonders wichtig bei optischen Streuscheiben, die in abbildenden Systemen wie Mikroskopen oder Wafersteppern eingesetzt werden. Wir zeigen erste mit dem Scatterometer aufgenommene Streulichtmessungen bei 193 nm an holografischen und DOE-basierten optischen Streuscheiben. [1] M. Wurm et al, Proc. SPIE 6533, 65330H, 2007