M. Wurm

P26 · Poster · 121. Tagung (2020)

Analysis of ellipsometric layer thickness measurements applying a novel optimization method for depolarizing Mueller matrices

T. Grunewald, M. Wurm, S. Teichert, B. Bodermann, J. Reck, U. Richter

P10 · Poster · 120. Tagung (2019)

A new method to derive best-fit parameters and their uncertainties from depolarizing Mueller-matrices

T. Grunewald, M. Wurm, S. Teichert, B. Bodermann, J. Reck, U. Richter

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P9 · Poster · 120. Tagung (2019)

Sub-Wavelength Features in Spectroscopic Mueller Matrix Ellipsometry

T. Käseberg, T. Siefke, M. Wurm, S. Kroker , B. Bodermann

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P27 · Poster · 117. Tagung (2016)

Improved method for optical linewidth measurements

M. Wurm, D. Bergmann, E. Buhr

P4 · Poster · 117. Tagung (2016)

Dimensional optical metrology on deep sub-wavelength nanostructures

B. Bodermann, G. Ehret, A. Diener, D. Bergmann, M. Wurm

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P5 · Poster · 115. Tagung (2014)

Anwendung der DUV Scatterometrie für die Rekonstruktion der Absorberstrukturen auf komplexen EUV-Masken

J. Endres, M. Wurm, A. Diener, B. Bodermann

P14 · Poster · 114. Tagung (2013)

Untersuchungen zum Einfluss verwendeter Näherungen in der Scatterometrie

J. Endres, S. Burger, A. Diener, H. Gross, M.-A. Henn, S. Heidenreich, M. Wurm, B. Bodermann

A28 · Vortrag · 113. Tagung (2012)

Towards traceability in scatterometric-optical dimensional metrology for optical lithography

B. Bodermann, J. Endres, H. Groß, M.-A. Henn, A. Kato, F. Scholze, M. Wurm

Vortrag PDF

A12 · Vortrag · 112. Tagung (2011)

Strukturbreitenmessungen an einer phasenschiebenden Photomaske mittels verbessertem DUV-Scatterometer

B. Bodermann , M. Wurm , St. Bonifer , J. Richter

Vortrag PDF

P25 · Poster · 111. Tagung (2010)

Charakterisierung von DOEs mittels DUV-Scatterometrie

M. Wurm, S. Bonifer, B. Bodermann

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B35 · Vortrag · 108. Tagung (2007)

Numerische Analyse des Potentials der DUV-Scatterometrie zur Charakterisierung von EUV-Photomasken

B. Bodermann, M. Wurm, R. Model, H. Groß

Vortrag PDF

H7 · Hauptvortrag · 107. Tagung (2006)

Scatterometrie: optische 3D-Charakterisierung strukturierter Oberflächen ohne (Beugungs-) Grenzen?

M. Wurm, B. Bodermann, H. Groß, A. Rathsfeld

Hauptvortrag PDF

P74 · Poster · 107. Tagung (2006)

Untersuchungen zur Eignung der EUV-Scatterometrie zur quantitativen Charakterisierung periodischer Strukturen am Beispiel einer COG-Photomaske

M. Wurm, B. Bodermann, C. Laubis, F. Scholze

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P25 · Poster · 106. Tagung (2005)

Evaluation of Scatterometry Tools for Critical Dimension Metrology

M. Wurm, B. Bodermann, W. Mirandé

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A13 · Vortrag · 105. Tagung (2004)

2D-Deflektometrie: Hochgenaue Topographiemessung großer optischer Flächen

M. Wurm, R. D. Geckeler, C. Elster