Interferenzlithografie mit gesteuerter Belichtungsenergieverteilung

Für eine wachsende Zahl von Anwendungen, beispielsweise aus dem Umfeld der Pulskompression in Femtosekunden-Lasersystemen, werden großflächige Beugungsgitter hoher spektraler Reinheit und hoher Beugungseffizienz benötigt. Große technologische Anstrengungen werden unternommen um Gitter hoher Liniendichten in der erforderlichen Qualität herzustellen. Im Gegensatz zu den seriellen Schreibverfahren wie zum Beispiel e-beam-writing aber auch der sogenannten Scanning Beam Interference Lithography wird die klassische Interferenzlithografie (Holografie) in der Fläche durch den Randabfall der Intensitäten über den aufbereiteten Wellenfronten limitiert. Wir stellen einen neuen Ansatz vor, bei dem ohne lokal phasenverändernde Elemente eine effektive Einebnung der räumlichen Energieverteilung mit Hilfe einer aktiven Kontrolle der Ausleuchtung der Punktlichtquellen bewirkt wird. Das Potenzial der Holografie bezüglich der erreichbaren strukturierten Flächen wird damit drastisch vergrößert. Alle Vorzüge dieser Technologie, wie zum Beispiel die Verwendbarkeit auch unebener Substrate oder die Realisierung höchster Liniendichten bei bester Qualität von Gitterprofilen bleiben dabei erhalten.