Modellierung von Referenzwellen zur lokalen Desensibilisierung in der Speckle-Interferometrie mittels Qualitätskriterien des Phasenbildes

Optische Messsysteme, wie z.B. elektronische Speckle-Muster-Interferometer (ESPI), gewinnen durch die hohe Nachfrage an Qualitätskontrollen in Produktionsprozessen mehr und mehr an Bedeutung. ESPI sind im Bereich der Deformationsmessung auf einem industriell einsetzbaren Niveau angelangt und dienen z.B. der Detektion von Oberflächendefekten. Bei der Erfassung der Form stoßen diese Systeme jedoch schnell an ihre Grenzen. Die Sensitivität ist durch die synthetische Wellenlänge gegeben und definiert den Streifenabstand des charakteristischen Interferenzmusters. Bei der Messung von komplexen Strukturen mit stark variierenden Phasengradienten entsteht ein Streifenmuster mit ebenfalls stark variierenden Streifendichten, was in nur teilweise auflösbaren Mustern resultiert. Durch adaptive Referenzwellen kann die Streifendichte lokal desensibilisiert werden. In dieser Arbeit wird ein Prozess vorgestellt, welcher durch modellierte Referenzwellen zu einer Erweiterung des Auflösungsbereichs führt. Die Modellierung der Referenzwelle geschieht anhand von Qualitätskriterien, welche einem im Grundzustand gemessenen Phasenbild entnommen werden.