Herstellung von Mikrogittern in optischen Gläsern mittels Ultrakurzpulslaserablation

In der Wellenleiter-Evaneszensfeld-Fluoreszens-Mikroskopie (WEFF-Mikroskopie) werden optische Gitter an der Grenzfläche des Wellenleiters zur Einkopplung eines Laserstrahls verwendet, sodass die geführte Mode das benötigte evanszente Feld erzeugen kann. Diese Koppelgitter werden normalerweise mittels aufwändiger UV-Laserlithographie hergestellt. Dieser Beitrag untersucht die Umsetzbarkeit der Koppelgitter auf HEBO FQVIS2 Quarzglas mittels Femtosekundenlaserprozessierung. Es werden Gitter im Raster-Verfahren geschrieben und mit im UV-Laserlithographieverfahren hergestellten Referenzproben in Bezug auf Gitterkonstante, Gitteramplitude und optische Nutzbarkeit verglichen. Mit dem Rasterverfahren werden Gitter mit 30-fach größeren Gitteramplituden im Vergleich zur UV-Laserlithographie hergestellt und Gitterkonstanten von Λ = 2 µm realisiert sowie ein Verfahren zur weiteren Reduzierung der Gitterkonstanten aufgezeigt.