Grautonlithographie für die Herstellung von Blazegittern

Beugungsgitter sind essenzielle Komponenten für die Forschung mit Photonen im UV-, VUV- und weichen Röntgenbereich an Laborquellen als auch an Großforschungsgeräten wie Synchrotron- und FEL-Quellen. Dabei sind insbesondere geblazte Gitter wegen ihrer hohen Beugungseffizienz von großem Interesse. Konventionelle Herstellungsmethoden wie das mechanische Teilen in Gold haben jedoch technologische Grenzen, was die Flexibilität und Verfügbarkeit solcher Gitter einschränkt. Im Rahmen der europäischen LEAPS-INNOV-Kooperation wird derzeit die Herstellung von Gittern der nächsten Generation mittels Elektronenstrahllithographie (EBL) untersucht. EBL ermöglicht eine hochauflösende Strukturierung über große Aperturen und eine vielseitige Strukturierung von Oberflächen. In diesem Zusammenhang untersuchen wir verschiedene Ansätze zur Herstellung hocheffizienter, geblazter Gitter mittels EBL. In diesem Beitrag berichten wir über die ersten Belichtungstests, die zur Herstellung eines geblazten Gitters mit einer Furchendichte von 600 Linien/mm durchgeführt wurden. Die Beugungseffizienz dieser Strukturen wurde an der Optik-Beamline (50eV - 700eV) des Elektronenspeicherrings BESSY II untersucht.