Zerstörungsfreie multimodale Analyse von polymerbasierten Mikro- und Nanostrukturen für die Nanoimprint Lithographie

Bei der Bewertung von replizierten polymerbasierten Miko- und Nanostrukturen ist es wesentlich, die Formtreue im Abformprozess quantifizieren zu können. Bislang werden häufig REM Methoden bei der Evaluation verwendet. Dadurch kann nur eine begrenzte Aussage über die Strukturen gewonnen werden. Um komplexe Polymerstrukturen mit hohen Aspektverhältnissen oder Hinterschnitten zerstörungsfrei und in weiteren Dimensionen (topologisch, optisch, …) bewerten zu können, werden in diesem Beitrag alternative Messtechniken wie beispielsweise Weißlichtinterferometrie, Rasterkraftmikroskop, optische Kohärenztomographie und Mikro-Computertomografie miteinander in Bezug gesetzt. Die dafür notwendigen Teststrukturen wurden mit Zwei-Photonen-Lithografie hergestellt. Neben der Formtreue werden zusätzliche Bewertungskriterien wie die Auflösung und das Aspektverhältnis betrachtet. Anhand der hier diskutierten Messtechnologien ist es möglich, je nach Strukturtyp und Fragestellung ein geeignetes Messmittel zu wählen um die Miko- und Nanostrukturen zerstörungsfrei zu evaluieren. Somit können weitere Erkenntnisse über das Abformverhalten von Polymerstrukturen eruiert werden.