R. Völkel
SUSS MicroOptics SA, Neuchatel, Schweiz
7 Beiträge
S3 · Sondervortrag · 127. Tagung (2026)
Adolf Lohmann and the Return of the Optical Computer: Vision, Legacy, and Lessons for the AI Age
B22 · Vortrag · 112. Tagung (2011)
Optimierung des Beleuchtungssystem eines Mask Aligners (MO Exposure Optics)
P17 · Poster · 112. Tagung (2011)
Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization
B33 · Vortrag · 109. Tagung (2008)
Eindimensionale Diffusoren für Laseranwendungen
P39 · Poster · 109. Tagung (2008)
Einkopplung in Multi-Mode-Faser mit Strahl-Homogenisierern
P56 · Poster · 109. Tagung (2008)
Spot Array Shaping
H6 · Hauptvortrag · 107. Tagung (2006)