B. Bodermann
Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Braunschweig
33 Beiträge
B21 · Vortrag · 124. Tagung (2023)
Messungen und numerische Simulationen der Müller-Matrix an Silizium Nanowire-Strukturen
P21 · Poster · 124. Tagung (2023)
Ein in-situ Verfahren zur Bestimmung der numerischen Aperturen (NA) der Beleuchtung und der Abbildung optischer Mikroskope
P3 · Poster · 124. Tagung (2023)
Konzepte für invertierte, achromatische plasmonische Linsen für nanooptische Systeme im sichtbaren und nahinfraroten Bereich
A1 · Vortrag · 123. Tagung (2022)
Metrologie zur Identifikation und Charakterisierung von Materialdefekten an GaN- und SiC-Wafern
P5 · Poster · 123. Tagung (2022)
Untersuchung des Schwingungseinflusses auf gemessene Punktspreizfunktionen in der optischen Mikroskopie
A1 · Vortrag · 122. Tagung (2021)
Entwicklung eines Müller-Matrix-Mikroskops für Messungen an Einzelstrukturen
B16 · Vortrag · 122. Tagung (2021)
Vergleich rigoroser Simulationstools anhand von modellbasierten Kantendetektionen in der optischen Mikroskopie
P13 · Poster · 122. Tagung (2021)
Einzelstrukturcharakterisierung mittels abbildender Müller-Matrix-Ellipsometrie
P14 · Poster · 121. Tagung (2020)
Charakterisierung eines UV– Mikroskops zur hochgenauen Positions- und Breitenmessung am Nanometerkomparator (NMK) der PTB
P26 · Poster · 121. Tagung (2020)
Analysis of ellipsometric layer thickness measurements applying a novel optimization method for depolarizing Mueller matrices
P10 · Poster · 120. Tagung (2019)
A new method to derive best-fit parameters and their uncertainties from depolarizing Mueller-matrices
P8 · Poster · 120. Tagung (2019)
Charakterisierung der Transmissionsspektren von nano-strukturierten guided-mode resonance (GMR) Mikrofarbfiltern
P9 · Poster · 120. Tagung (2019)
Sub-Wavelength Features in Spectroscopic Mueller Matrix Ellipsometry
P4 · Poster · 117. Tagung (2016)
Dimensional optical metrology on deep sub-wavelength nanostructures
P5 · Poster · 115. Tagung (2014)
Anwendung der DUV Scatterometrie für die Rekonstruktion der Absorberstrukturen auf komplexen EUV-Masken
P14 · Poster · 114. Tagung (2013)
Untersuchungen zum Einfluss verwendeter Näherungen in der Scatterometrie
A28 · Vortrag · 113. Tagung (2012)
Towards traceability in scatterometric-optical dimensional metrology for optical lithography
A12 · Vortrag · 112. Tagung (2011)
Strukturbreitenmessungen an einer phasenschiebenden Photomaske mittels verbessertem DUV-Scatterometer
P34 · Poster · 112. Tagung (2011)
Erste Messungen mittels eines hochaperturigen 193 nm Mikroskops zur Strukturbreitenmessung
A26 · Vortrag · 111. Tagung (2010)
Aufbau eines 193 nm Mikroskops als Strukturbreitenmesssystem für Photomasken
P25 · Poster · 111. Tagung (2010)
Charakterisierung von DOEs mittels DUV-Scatterometrie
P34 · Poster · 109. Tagung (2008)
Konstruktive Realisierung eines hochaperturigen 193nm-Mikroskops für die quantitative dimensionelle Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen
B35 · Vortrag · 108. Tagung (2007)
Numerische Analyse des Potentials der DUV-Scatterometrie zur Charakterisierung von EUV-Photomasken
P27 · Poster · 108. Tagung (2007)
Fokuskriterien zur Kantendetektion an Phasenobjekten
H7 · Hauptvortrag · 107. Tagung (2006)
Scatterometrie: optische 3D-Charakterisierung strukturierter Oberflächen ohne (Beugungs-) Grenzen?
P49 · Poster · 107. Tagung (2006)
Quantitative dimensionelle Mikroskopie an Mikro- und Nanostrukturen: Untersuchungen zum Einfluss verschiedener Kantengeometrien
P74 · Poster · 107. Tagung (2006)
Untersuchungen zur Eignung der EUV-Scatterometrie zur quantitativen Charakterisierung periodischer Strukturen am Beispiel einer COG-Photomaske
A27 · Vortrag · 106. Tagung (2005)
Comparison of dark field microscopy with alternating grazing incidence illumination and bright field microscopy
A29 · Vortrag · 106. Tagung (2005)
Comparison of different microscope imaging models for different structure geometries on the basis of rigorous diffraction calculation
P25 · Poster · 106. Tagung (2005)
Evaluation of Scatterometry Tools for Critical Dimension Metrology
P31 · Poster · 106. Tagung (2005)
Gated heterodyne coherent anti-Stokes Raman scattering for high-contrast molecule-specific imaging
P2 · Poster · 105. Tagung (2004)
Einfluss von Polarisation, Einfallswinkel und Materialkonstanten bei der Dunkelfeldmikroskopie mit alternierender Beleuchtung bei streifendem Einfall
P32 · Poster · 105. Tagung (2004)