Erste Messungen mittels eines hochaperturigen 193 nm Mikroskops zur Strukturbreitenmessung

In der PTB wurde ein neuartiges mikroskopisch-optisches System zur Strukturbreitenmessung an Photomasken entwickelt und aufgebaut. Das System basiert auf einem hochaperturigen Mikroskop mit einer Abbildungs-NA von 0,9 und arbeitet bei einer Beluchtungswellenlänge von 193 nm. Es wird rückgeführte Strukturbreiten-messungen an Mikro- und Nanostrukturen mit einer Messunsicherheit bis hinunter zu 10 nm ermöglichen. Das Beleuchtungssystem erlaubt eine inkohärente und homogene Beleuchtung mit einer Beleuchtungs-NA von 0,6. Mit ersten Testmessungen konnte eine Auflösungssteigerung von ca. 35% gegenüber dem bisherigen Strukturbreitenmesssytem der PTB demonstriert werden. Es wird der Status des DUV-Mikroskops und erste Messergebnisse vorgestellt. Das Systems ist konzipiert, um verschiedene Beleuchtungs- und Abbildungsverfahren bis hin zur Verwendung als Fourier-Scatterometer zu ermöglichen und damit das Potential des Systems weiter zu verbessern. Erste Tests zur Erweiterungen des Systems als Fourier-Scatterometer werden präsentiert.