Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich
Carl Zeiss Jena GmbH, Carl-Zeiss-Promenade 10,
07745 Jena, Germany
2Leibniz -Institut für Oberflächenmodifizierung e.V., Permoserstr. 15, 04318 Leipzig, Germany
3Physikalisch-Technische Bundesanstalt, EUV radiometry, Abbestr. 2-12, 10587 Berlin, Germany
4Technische Universität Ilmenau, Fakultät für Maschinenbau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany
Abstract
Durch eine Prozessoptimierung ist es möglich, auf der Basis holografisch hergestellter blaze-förmiger Resistgitter in Kombination mit einer abgestimmten Ätztechnologie, besonders streulichtarme EUV-Gitter zu erzeugen. Neben der sehr gleichmäßigen und nahezu idealen Blaze-Struktur in der Resistmaske stellt die Realisierung großflächiger Gitter dieser Art unter Erhalt der Substratgeometrie im Sub-Wellenlängenbereich eine besondere Herausforderung dar. Wir stellen die technologische Umsetzung vor und präsentieren Ergebnisse von Anwendungen entsprechend realisierter Grazing-Incidence-Gratings im Wellenbereich um 13,5nm.