Effiziente diffraktive Markierung von Glasoberflächen mittels ArF-Excimerlaser

Die Markierung von Glaswerkstoffen mit einem ArF-Excimerlaser bietet gegenüber anderen laserbasierten Verfahren sehr spezifische Vorteile. Die kurze Wellenlänge von 193 nm garantiert eine hohe Strukturauflösung bei gleichzeitig starker linearer Absorption durch das Glas. Das ausgedehnte Strahlprofil in Verbindung mit der geringen Kohärenz ermöglicht den Einsatz effizienter Maskenprojektionstechniken. Die in die Glasoberfläche ablatierten periodischen Mikrostrukturen sorgen trotz ihrer geringen, materialschonenden Strukturtiefe durch Lichtbeugung für einen kontrastreiche und optisch ansprechende Markierung. Es wird gezeigt, wie durch Phasenmaskenprojektion eine effiziente, großflächige Markierung realisert werden kann. Trotz geringster Anforderungen an die Abbildungsoptik sind Oberflächengitter mit Perioden unter 2 µm strukturierbar. Ein neues Verfahren kombiniert eine zylindrische Abbildungsoptik mit einem Werkstoffvorschub, der auf die Repetitionsrate des Lasers abgestimmt ist, um eine Steigerung der Prozessgeschwindigkeit zu erreichen.