Reaktives Ionenstrahlätzen von hochdispersiven Transmissionsgittern mit höchster Beugungseffizienz
Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, 04318 Leipzig, Deutschland;
2 Carl Zeiss Jena GmbH, Microstructured Optics, 07743 Jena, Deutschland
gregor.dornberg@iom-leipzig.de
Abstract
Für die Erzeugung hochdispersiver monolithischer Transmissionsgitter in SiO2 mit höchster Beugungseffizienz mittels reaktiven Ionenstrahlätzen ist der prozesstechnisch kontrollierbare Profilübertrag (Tiefe, Füllfaktor, Kantenwinkel) von entscheidender Bedeutung. In diesem Beitrag wird der Einfluss verschiedener Prozessparameter auf die resultierende Profilform diskutiert. Den Ausgangspunkt stellen über Laserinterferenzlithographie erzeugte Fotolackgitter dar. Neben der Variation der Ätzgaszusammensetzung (CHF3/Ar bzw. CHF3/Ar/O2) werden auch der Ioneneinfallswinkel und die durch die angelegte Beschleunigungsspannung bestimmte Strahldivergenz hinsichtlich Ihrer Wirkung untersucht. Es wird gezeigt, dass hochfrequente Gitter mit 1700 bzw. 3000 l/mm, welche für Wellenlängen von 1030 bzw. 519 nm optimiert sind, mit hoher Beugungseffizienz ≥ 94% (-1T, TE, Littrow-Anordnung) herstellbar sind.
Keywords
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