Matthias Burkhardt

A18 · Vortrag · 125. Tagung (2024)

Hochauflösende EUV-Gitter durch 2D-Phasenkorrektur in der Linienverteilung

M. Burkhardt, M. Steglich, M. Helgert, D. Lehr, S. Sinzinger

B30 · Vortrag · 123. Tagung (2022)

Abbildende holografische EUV-Gitter

M. Burkhardt, M. Steglich, A. Kalies, M. Stumpf, D. Lehr

A17 · Vortrag · 122. Tagung (2021)

Bestimmung der optischen Konstanten und Streueigenschaften von transparenten Kunststoffen auf Polyurethanbasis für den Einsatz in der Optoelektronik

J. Bauer, O. Fursenko, F. Heinrich, M. Gutke, B. Dietzel, E. Kornejew, O. Broedel, A. Kaltenbach, M. Burkhardt, M. Edling, S. Pulwer, P. Steglich, M. Herzog, S. Schrader

P7 · Poster · 122. Tagung (2021)

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Neuartige UV-transparente 2-Komponenten-Polyurethanharze für Chip-on-Board-LED-Mikrolinsen

M. Gutke, J. Bauer, S. Pulwer, A. Kaltenbach, M. Burkhardt, M. Gruenefeld, M. Gamp, M. Edling, V. Stoycheva, P. Steglich, F. Heinrich, S. Steffen, M. Herzog, C. Dreyer, S. Schrader

P39 · Poster · 121. Tagung (2020)

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Asymmetrische Polymer-Linsen für Beleuchtungssysteme

J. Bauer, M. Gutke, A. Kaltenbach, M. Burkhardt, M. Gruenefeld, M. Gamp, M. Edling, P. Steglich, F. Heinrich, S. Schrader

P40 · Poster · 121. Tagung (2020)

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Neuartige UV-transparente 2-Komponenten-Polyurethanharze für Chip-on-Board-LED-Mikrolinsen

M. Gutke, J. Bauer, A. Kaltenbach, M. Burkhardt, M. Gruenefeld, M. Gamp, M. Edling, V. Stoycheva, P. Steglich, F. Heinrich, S. Steffen, M. Herzog, C. Dreyer, S. Schrader, C. Gerhard

A36 · Vortrag · 120. Tagung (2019)

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Methoden zur Charakterisierung optischer Gitter über einen großen Ortsfrequenzbereich

F. Koch, M. Burkhardt, M. Schnabel, T. Glaser, S. Sinzinger

A27 · Vortrag · 119. Tagung (2018)

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Optimization and manufacturing of gold gratings for pulse compression

F. Koch, O. Schönbrodt, M. Burkhardt, D. Lehr, T. Glaser, S. Sinzinger

A28 · Vortrag · 119. Tagung (2018)

Angepasste Interferenzgitter für spektroskopische und Laser-Anwendungen von EUV bis NIR

M. Burkhardt, F. Koch, A. Kalies, L. Erdmann, M. Helgert, A. Pesch, O. Schönbrodt, F. Frost, F. Finzel, D. Lehr, A. Gatto, S. Sinzinger

P60 · Poster · 117. Tagung (2016)

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Ion beam etching process simulation for the pattern transfer of photoresist diffraction gratings generated by holography

M. Burkhardt, R. Fechner, F. Frost, S. Sinzinger

B12 · Vortrag · 116. Tagung (2015)

Blazed XUV Gratings with a Very Low Level of Stray Light

M. Burkhardt, R. Fechner, A. Nickel, F. Frost, A. Gatto, C. Laubis, F. Scholze, S. Sinzinger, V. Soltwisch

P19 · Poster · 115. Tagung (2014)

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Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich

M. Burkhardt, R. Fechner, D. Flamm, F. Frost, A. Gatto, C. Laubis, F. Scholze, S. Sinzinger, V. Soltwisch

P43 · Poster · 114. Tagung (2013)

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Interferenzlithografie mit gesteuerter Belichtungsenergieverteilung

M. Burkhardt, R. Steiner, A. Gatto, S. Sinzinger

A3 · Vortrag · 113. Tagung (2012)

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Imaging gratings with modulated blaze realized by a combination of holography and reactive ion beam etching

M. Burkhardt, R. Fechner, L. Erdmann, F. Frost, R. Steiner, O. Sandfuchs, A. Schindler, A. Gatto, S. Sinzinger

B27 · Vortrag · 112. Tagung (2011)

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Holografisch mikrostrukturierte Gitter für Hochleistungs-spektrometer

O. Sandfuchs, M. Burkhardt, R. Steiner, A. Gatto, R. Brunner

P47 · Poster · 112. Tagung (2011)

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Möglichkeiten und Grenzen der interferenzlithografischen Herstellung modulierter Blazegitter

M. Burkhardt, O. Sandfuchs, A. Gatto, R. Steiner, S. Sinzinger

B31 · Vortrag · 110. Tagung (2009)

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Hochauflösende EUV-Gitter durch 2D-Phasenkorrektur in der Linienverteilung

Abbildende holografische EUV-Gitter

Bestimmung der optischen Konstanten und Streueigenschaften von transparenten Kunststoffen auf Polyurethanbasis für den Einsatz in der Optoelektronik

Neuartige UV-transparente 2-Komponenten-Polyurethanharze für Chip-on-Board-LED-Mikrolinsen

Asymmetrische Polymer-Linsen für Beleuchtungssysteme

Neuartige UV-transparente 2-Komponenten-Polyurethanharze für Chip-on-Board-LED-Mikrolinsen

Methoden zur Charakterisierung optischer Gitter über einen großen Ortsfrequenzbereich

Optimization and manufacturing of gold gratings for pulse compression

Angepasste Interferenzgitter für spektroskopische und Laser-Anwendungen von EUV bis NIR

Ion beam etching process simulation for the pattern transfer of photoresist diffraction gratings generated by holography

Blazed XUV Gratings with a Very Low Level of Stray Light

Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich

Interferenzlithografie mit gesteuerter Belichtungsenergieverteilung

Imaging gratings with modulated blaze realized by a combination of holography and reactive ion beam etching

Holografisch mikrostrukturierte Gitter für Hochleistungs-spektrometer

Möglichkeiten und Grenzen der interferenzlithografischen Herstellung modulierter Blazegitter

Imaging gratings for multiorder microspectrometers realized by interference lithography using supplementary holograms

Funktionsintegrierende Elemente zur Strahlformung und Kohärenzbeeinflussung für UV-Mikroskopie und Materialbearbeitung

Simulation der Photoresistprozessierung zur Herstellung beugungsoptischer Elemente