C. Elster

Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Berlin

13 papers

A33 · Talk · 121. Conference (2020)

Hybridmethode zur Oberflächenrekonstruktion von optischen Asphären und Freiformen: Maschinelles Lernen basierend auf dem Tilted-Wave Interferometer

L. Hoffmann, M. Stavridis, I. Fortmeier, M. Schulz, C. Elster
B25 · Talk · 121. Conference (2020)

SimOptDevice – Ein Werkzeug für virtuelle Experimente in der Optik

M. Stavridis, I. Fortmeier, M. Schulz, C. Elster
B41 · Talk · 121. Conference (2020)

Simulation einer hochgenauen optischen Formmessung an Freiformoptiken mit Größen bis zu 1,5 Metern

J. Spichtinger, M. Stavridis, A. Straub, C. Elster, M. Schulz, G. Ehret
P1 · Poster · 120. Conference (2019)

Konzept für eine hochgenaue und rückgeführte optische Formmessung an großen Optiken bis 1,5 Meter

J. Spichtinger, G. Ehret, M. Schulz, M. Stavridis, C. Elster
P22 · Poster · 118. Conference (2017)

Rekonstruktionsalgorithmen zur genaueren Bestimmung der 3D-Topographie bei einem scannenden optischen Punktsensor

A. Straub, S. Laubach, G. Ehret, M. Stavridis, F. Schmähling, C. Elster
A4 · Talk · 112. Conference (2011)

Virtuelle und reale Experimente am neuen deflektometrischen Ebenheitsstandard

G. Ehret, M. Schulz, M. Baier, A. Fritzenreiter, W. Jöckel, M. Stavridis, C. Elster
P25 · Poster · 112. Conference (2011)

Asphärenmesstechnik im Rahmen des Europäischen Metrologie-Forschungsprogramms EMRP

M. Schulz, G. Ehret, E. Buhr, C. Elster
A20 · Talk · 111. Conference (2010)

Vergleich von hochgenauen deflektometrischen Verfahren für die Ebenheitsmetrologie

G. Ehret, M. Schulz, M. Baier, A. Fitzenreiter, M. Stavridis, C. Elster
A6 · Talk · 109. Conference (2008)

Direkte Kalibrierung flächenmessender Interferometer mit dem TMS-Verfahren

M. Schulz, A. Marquez, A.Wiegmann, C. Elster
P28 · Poster · 109. Conference (2008)

Absolute Topographievermessung gekrümmter optischer Oberflächen mit hoher lateraler Auflösung

A. Wiegmann, C. Elster, M. Schulz, M. Stavridis
A4 · Talk · 108. Conference (2007)

Weiterentwicklung des TMS-Verfahrens zur hochauflösenden und hochgenauen optischen Formmessung

M. Schulz, A. Wiegmann, C. Elster
P34 · Poster · 108. Conference (2007)

Unsicherheitsanalyse für das TMS Verfahren: Einfluss hoher Ortsfrequenzen des Prüflings

A. Wiegmann, C. Elster, R. D. Geckeler , M. Schulz
A13 · Talk · 105. Conference (2004)

2D-Deflektometrie: Hochgenaue Topographiemessung großer optischer Flächen

M. Wurm, R. D. Geckeler, C. Elster