Vergleich von hochgenauen deflektometrischen Verfahren für die Ebenheitsmetrologie

Deflektometrische Verfahren ermöglichen die direkte und absolute Topographiemessung von optischen Flächen mit Unsicherheiten im Sub-Nanometer-Bereich. Sie benutzen als Referenz die geradlinige Ausbreitung des Lichtes und messen mit einem hochgenauen Winkelmesssystem die Ablenkung dieses Lichtstrahls. An der PTB wird zur Zeit ein neues optisches deflektometrisches Ebenheitsreferenzsystem aufgebaut, welches voraussichtlich im Laufe des Jahres 2010 erste Messergebnisse liefern wird. Dieses Ebenheitsreferenzsystem kann die Topographie von Prüflingen bis zu einer Größe von 1 m und einer Masse bis zu 120 kg sowohl liegend als auch stehend messen. Da nicht alle Messoptionen in einem System sinnvoll realisiert werden konnten, werden zwei getrennte Systeme aufgebaut. In den beiden Systemen kommen die Direkt- und die Differenzdeflektometrie, jedoch auch ein neues deflektometrisches Messverfahren zum Einsatz. Diese unterschiedlichen Konzepte werden dargestellt, analysiert und diskutiert. Der Vergleich wird dabei sowohl durch reale als auch virtuelle Experimente quantifiziert.